锗窗口片适用低温环境,高密度需注意,主要用于热成像和FLIR,硬度高适用于红外光学应用。
产品说明
光学材质:锗
适用波段:2.0 μm -16.0 μm
由于锗的透光率受温度影响显著,会随温度升高而下降,故锗制成的窗口片通常仅限于100°C以下的环境中使用。在对重量有严格限制的系统中,锗的高密度(5.33 g/cm3)是设计时需要重点考虑的因素。锗的主要应用领域是热成像系统和前视红外(FLIR)技术。其努氏硬度达到780,约为氟化镁的两倍,这使得锗非常适用于需要承受环境变化的红外光学应用。
通用参数
光学元件材质 | 锗 | 面型精度(@633 nm) | λ/2 |
直径公差 | +0.00/-0.20 mm | 厚度公差 | ±0.1 mm |
表面光洁度(划痕/麻点) | 40/20 | 表面平行度 | ≤30 arcsec |
通光孔径 | 90% 直径 | 适用波段 | 2.0 μm -16.0 μm |
产品型号 | 光学元件材质 | 直径 | 厚度 |
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LO-GOW-N1203 | 锗 | 12.7 mm | 2.0 mm |
LO-GOW-N2503 | 锗 | 25.4mm | 2.0 mm |
LO-GOW-N5003 | 锗 | 50.8mm | 3.0 mm |
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